比军费还高得多！中国一项支出超2万亿，重大科技绝不被卡脖子

多客科技

作者：绝对军视
文/猫头鹰茄子

科技兴国不仅仅是一句口号，更是中国在世界各国中崛起的重要方法。就在最近的两会期间，中国官方表示科研经费年增长率已经超过了10%，总量更是远远超过了国防经费的支出，并且将在未来的五年内持续增加。也正是得益于中国近年来对科技领域的重视，中国已经在多个重要领域取得了重大突破，正全力摆脱对外国的依赖，美国对中国的制裁威胁也随之变得越来越无力。



据环球时报援引美国CNBC网站3月7日报道，近日，中国国务院官方透露，在新冠疫情肆虐的2020年，中国不仅没有放弃在科技领域的投入，支持力度反而不断加大。据悉，在2020年，中国科学研发支出暴涨10.3%，总量达到了惊人的2.44万亿元人民币，占全国生产总值的2.4%。

而且，官方消息还指出，从2021年到2025年的第十四个五年发展规划中，中国的科研支出涨幅虽然将有所回落，但年增长幅度依然将保持在7%以上，这意味着中国在科技研发领域的投入在总GDP中所占的比例将显著高于前五年。值得一提的是，西方媒体正在大肆鼓吹中国“军费高昂”，但中国2021年的军费预算仅为1.355万亿人民币，仅仅是中国科研支出的一半多一些，更是仅为美国的四分之一。可见，中国对科研领域的重视程度，甚至已经超过了对军队建设的重视程度，这也从侧面证实，中国绝没有在“穷兵黩武”。



报道指出，在过去的五年中，中国大力支持本国科研事业，尤其是在华为、中兴、大疆等中国企业遭到美国的无理制裁和封锁后，中国更是不惜花费巨资来建设属于中国自己的“纯国产半导体产业链”，以对抗美国等西方国家的封锁和制裁。

也正是得益于国内科研环境的一片大好，中国在许多关键领域都取得了突破性进展。据美国微观新闻网报道，中国的上海微电子设备公司（SMEE）已经在关键的光刻机领域取得了突破性的进展，预计将在2021-2022年交付首台实用化的中国纯国产化28nm级光刻机。美国媒体报道指出，这是中国半导体产业的一大跨越式发展，标志着中国的半导体工艺将从此前的40nm跨进28nm大关，并且将向实用化的14nm工艺发起冲击。



美国媒体还指出，中国国产化光刻机的出现意味着荷兰阿斯麦公司对高端光刻机的“垄断”出现了裂痕，中国正在想尽一切办法终结中国科技企业对西方科技产品的严重依赖。还有美国专家警告称，如果在未来的10年内，中国能够批量生产7nm级别的芯片，那么中国将取代美国、日本和韩国等国家和地区，成为全世界半导体产业最发达、最完备同时生产成本也最低的国家，届时这些“中国芯片”反而将对美国本土的半导体产业造成毁灭性的冲击，因为大量的美国科技企业都很可能为了降低成本而去购买物美价廉的中国芯片，而不是昂贵的美国或韩国芯片。



不过，有中国学者也表示，中国在许多高新科技领域依然缺乏积累，而且科学研发不仅仅靠大笔经费，更需要大量的时间进行反复的试验、测试和调整，这些都需要非常多的耐心和支持，因此现在就开始乐观地幻想“中国科技碾压美国”还为时太早。当然，从长远来看，中国的科技发展依然前景光明，因为我们不靠西方国家的支持，我们靠的是自己。