原：芯片设计概述与基本设计过程(连载)(1２月16日)

熊猫羊

等我有时间了想写写各类CVD和PVD,以及LIGA技术,以及光刻光源,如,极紫外EUV,真空紫外VUV,同步辐射光,以及一个有意思的光学器件:光栅.

[ 本帖最后由 熊猫羊 于 2006-10-10 23:36 编辑 ]

eisenstange

Serial Nr: 124

[ 本帖最后由 eisenstange 于 2007-12-3 21:58 编辑 ]

熊猫羊

占楼
CVD即Chemical Vapour Depostion,化学沉积法
包括
CVD
PECVD
RTCVD
UHVCVD
MOCVD


MOCVD,MBE(见PVD技术)是制造量子阱,量子线,量子点器件的关键技术之一

[ 本帖最后由 熊猫羊 于 2006-10-10 23:49 编辑 ]

熊猫羊

PVD,即,Physical Vapour Deposition物理蒸汽沉积
主要包括
蒸镀
sputter溅射
APVD电弧物理蒸汽沉积
IP离子注入
MBE分子束外延

熊猫羊

由于光罩的衍射极限,光刻很大程度要求光源波长要小,此外,高单色性(频谱极窄),高强度,高相干也是要求

光刻光源主要包括
1 汞灯,(呵呵我就用过这个,因为我经历的光刻是太阳能电池和光波导,光刻线宽都大于1微米,无需layout),此外,需说明,汞灯是最强单色性最好的非激光光源.
2 紫外光源,包括UV,EUV,VVU,
3 synchrotron radiation同步辐射光源,国内北京,合肥,台北个有一座,德国的叫DESY,在汉堡
4 FEL自由电子激光,不过,现在实用的较少,多在建,如德国的BESSY.这是挑战现有光刻期限的希望

[ 本帖最后由 熊猫羊 于 2006-10-13 16:56 编辑 ]

熊猫羊

LIGA是德语 Lithographie Galvanoformung Abformung的词头缩写,中文大意光刻-电铸-成型加工法
一般光刻的刻深:线度比远小于1,LIGA是种深层体光刻法,
LIGA技术最早由Karsuhr的核研究中心提出,利用同步辐射在塑料上光刻再电铸,最后成型,早期的LIGA多用于制造ME[O]MS,微电[光]机系统,如微型齿轮,马达,微反射镜,耦合器等,后来逐渐用也于半导体制造

熊猫羊

光栅Gitter,grating,行话,能周期性分割电磁波波前,并在其后产生的衍射现象的器件.
最简单的光栅就是在平整的光学玻璃上划出平行等距的密集的刻线,越密越好,原因见后文

光栅是由一个美国作家发现的,名字忘了(待补),某日他无聊用一块张紧的丝绸手帕对着路灯,发现(除了Moire条纹外),当路灯相对观察者不动,但缓缓移动手帕时,(待续)
此外,他向一个美国的天文学家,,名字又忘了(再待补),请教此现象,于是光栅开始被规范研究.
光栅之父当Fraunhofer莫属,他是个从工匠成长起来的光学家,动手很重要,制造了各类高超的光学器件,当然也包括光栅,最早他把金属丝并排在一起当光栅,(同时也是个起偏器),后来他发明了光栅刻画机,用金刚石刻画光学玻璃,并配以精密步进系统控制栅距,这种刻画光栅的密度可超过300条每毫米,刻画光栅是第一代光栅,其缺点是,刻画时的栅距偶然误差会引起所谓的鬼线,见后文.现代光栅又分两代,
1,三明治型全息光敏光栅,(待续)
2 电子束刻蚀光栅,(待续)

原理
Huygens-Fresnel-Kirchenhof原理
简而言之,用相位合成法可得光栅不同衍射级上的强度,相位
(待续)

种类 (待续)
透射光栅,
反射光栅
闪耀光栅
凹面光栅

特殊光栅(待续)
零阶光栅,
闪耀光栅
Kinoform

应用,(待续)
作为色散元件,最简易的单色仪就是面对面的两块联动光栅
作为分光元件,

eisenstange

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[ 本帖最后由 eisenstange 于 2007-12-3 21:58 编辑 ]

熊猫羊

Epitaxie
在半导体技术里叫"单晶体掩模技术"么?
物理里一般叫,
好像叫外延,台湾一般称垒晶,
外延主要有
LPE液相外延
VPE气相外延
VE真空外延
MBE分子束外延

其中MBE是低温过程多用于长突变结,由于温度低,衬底-外延层间的扩散微弱,故只要衬底-外延层间的晶格适配度小,突变结质量很高,结宽可小到若干原子层厚度.常用于制造双异质结半导体激光器(DHJLD),量子阱半导体激光器QWLD,如CDROM,DVDROM的光学读取部分的光源就是一个GaAs/GaAlAs-DHJLD.

eisenstange

Serial Nr: 124

[ 本帖最后由 eisenstange 于 2007-12-3 21:59 编辑 ]