EUV光刻机并非唯一，华为新技术专利曝光，芯片有出路了？

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作者：科技小笛
EUV光刻机被誉为是工业之花，是最先进工艺芯片制造的必须设备。当然，其研发难度也是半导体产业链中最大的。据悉，仅其中的一个零件，就让美国科学家打磨了十年之久，何况一台完整的EUV光刻机所含的核心零件不下十万个。



EUV光刻机并非唯一

为了应对美国的芯片封锁，国内决定从光刻设备的研发入手，从而实现芯片自主。但此时全球唯一能生产EUV光刻机的ASML却泼来冷水，表示即便给我们图纸，我们也造不出来。
诚然，EUV光刻机研发难度系数很高，但别看ASML话说得漂亮，真让它给个图纸试试？
ASML之所以会这么说，是因为它不希望看到我们打破这项垄断，否则，中国市场真就要彻底和它说再见了。



好消息是，经过科学家们的努力，我国在短时间内，就取得了自研EUV光刻机的重大成果。
这次要归功于清华大学，清华科研团队在研究一种粒子加速器的过程中，探索出了一项光源技术。据了解，这项光源的波长可以覆盖太赫兹到极紫外波段，而极紫外光正被应用于EUV光刻机，是最核心的技术之一。
有了这项光源技术，就意味着我们国产EUV光机的研发完成了一半。虽然不能立刻解开芯片封锁问题，但曙光已现，相信不会等太久。



事实上，即便我们克服了EUV光刻机的难关，也难以立刻实现芯片自主。因为传统芯片产业链中，除了光刻设备之外，我们被西方“卡脖子”的技术设备还有很多。
不过，传统芯片在5nm、3nm之后已经逼近物理极限，在这种情况下，各地都在寻找新的半导体材料或新型芯片以替代，一旦实现，那么EUV光刻机将不再是唯一。
华为新专利技术全球第二

从国家公布的2035年远景科技目标中不难发现，相比传统芯片产业，量子科技才是未来的重点方向。



量子芯片被誉为半导体材料的终极形态，在该领域，全球各国几乎处在同一起跑线上，不仅研发起始的时间差不多，就连投入也都不遑多让，唯一拼的就是硬技术。
近两年，我国在量子技术方面迎来了巨大的突破，除了多条量子干线的搭建之外，量子计算机和量子芯片的框架也相继开发完成，并且领先全球。



不仅科研机构，国产企业在量子领域同样交出了出色的成绩单。近日，专利机构valuenex公布全球量子技术专利份额的统计数据，排名前五的中企里只有华为。数据显示，华为目前已拥有100多项量子技术发明专利，位居全球第二！
量子芯片与传统硅基芯片大不相同，是以光子为介质所集成的，与硅材料有着本质的区别，因此，制造方面也用不上传统的那套设备，也就是说无需EUV光刻机。而且，量子芯片的整体性能超过了硅基芯片的十倍。
在量子技术的研发上，我国积累的专利数是美国的两倍还多，而且，多方面已经从实验室渗透到了实际场景的应用之中。



总结

在后硅时代，量子芯片的出现具有重要的意义，或是提前揭开量子时代序幕的关键。对我国芯片产业而言，量子芯片虽研发完成，可距离大批量产还有不少技术需要攻克。
好的一方面是，在这个“新航道”上，我们已经厚积薄发，开始构建自己的半导体护城河，量子芯片或许就是我们除了EUV光刻机外的另一个出路。
对此，你们怎么看？